脈沖電源在脈沖電鍍過程中，當(dāng)電流導(dǎo)通時(shí)，脈沖（峰值）電流相當(dāng)于普通直流電流的幾倍甚至幾十倍，正是這個(gè)瞬時(shí)高電流密度使金屬離子在極高的過電位下還原，從而使沉積層晶粒變細(xì)；當(dāng)電流關(guān)斷時(shí)，陰極區(qū)附近放電離子又恢復(fù)到初始濃度，濃差極化消除，這利于下一個(gè)脈沖同期繼續(xù)使用高的脈沖（峰值）電流密度，同時(shí)關(guān)斷期內(nèi)還伴有對(duì)沉積層有利的重結(jié)晶、吸脫附等現(xiàn)象。這樣的過程同期性地貫穿整個(gè)電鍍過程的始末，其中所包含的機(jī)理構(gòu)成了脈沖電鍍的基本原理。實(shí)踐證明，脈沖電源在細(xì)化結(jié)晶，改善鍍層物理化學(xué)性能，節(jié)約貴重金屬等方面比傳統(tǒng)直流電鍍有著不可比擬的優(yōu)越性。

    脈沖電源的開關(guān)電源采用了高頻變壓器制成，大大提高的轉(zhuǎn)換效率，一般情況下可以將設(shè)備提高效率的10%以上，當(dāng)負(fù)載率達(dá)到70%以下時(shí)，能將控硅設(shè)備提高30%以上的效率。

    由于脈沖電源系統(tǒng)快速的反應(yīng)，能對(duì)網(wǎng)電和負(fù)載的變化具有較強(qiáng)的適應(yīng)性，能使輸出的精度優(yōu)于1%，使開關(guān)電源的工作效率更高，因此控制的精度也會(huì)更高，能有效的利于提高產(chǎn)品的質(zhì)量。

    雙脈沖電源比單脈沖電源電鍍更細(xì)致，光潔度更好。雙脈沖電源的反向脈沖的陽極化溶解使陰極表面金屬離子濃度迅速回升，這有利于隨后的陰極周期使用高的脈沖電流密度，因而鍍層致密、光亮、孔隙率低;雙脈沖電源的反向脈沖的陽極剝離使鍍層中有機(jī)雜質(zhì)(含光亮劑)的夾附大大減少，因而鍍層純度高，抗變色能力強(qiáng)。